간편 노광기 (Exposure System)

 

본 장치는 자외선을 이용한 노광으로 PR 패턴을 할 수있는 장치입니다.

    

    ■ 간편노광기 Exposure system

● 사 양

  - Wavelength : 300 ~ 450nm

  - Intensity : 10 ~ 20mW/cm2 ( @ 365nm )

  - Exposure mode

     Vacuum contact

     Soft contact

  - Exposure time

    Timer ( 0.1 ~999 sec )

 - Sample size : order made

 

 

 

 

 

 

 

 

 

         exposure-1.jpg

 

  

 - 제품의 특징

    심플한 구조

    파장영역 : 365nm(i line) ~ 436nm(g line)

    Intensity : 10~ 20 mw/cm2 ( @ i line )

     

 

 - 공정순서

     ❶ Tray를 연다

     ❷ PR 또는 경화제를 도포한 시료를 올려 놓는다.

     ❸ 시료 위에 Mask를 올려 놓는다.

     ❹ Tray를 닫는다.

     ❺ Timer 설정

     ❻ Exposure한다.

     

 

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